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關于新鉑
新鉑科技（東莞）有限公司成立于2020 年底，是新鉑科技的主要生產基地，具有4條組裝生產線和5條檢測調試線，廠房面積2000+，現有員工20+。是國內專業從事真空鍍膜系統的研發、制造、銷售為一體的國家級高新技術企業。其研發中心位于東莞市松山湖大學創新城，其研發人員均為碩士以上學歷（其中博士6人），在相關領域發表學術論文300余篇。
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60%
研發人員占比
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300+
發布學術論文
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4.5星級
客戶好評
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50+個
課題合作研發
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20+個
定制開發項目
企業榮譽
新聞中心
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天津對比陰極弧與HiPIMS對AlTiN沉積膜層的研究
目前制備硬質合金涂層主要可采用PVD方式，而PVD沉積除磁控放電外，還有陰極弧放電進行涂層PVD沉積，相比磁控，陰極弧放電結構簡單，已廣泛應用于各種涂層技術的制備，如裝飾鍍層，其工藝沉積速率快。隨著工藝的要求逐漸提高，硬質合金涂層在硬度等方面提出了更高的要求，...
- 2022-10-26 00:00:00 | →
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天津6種靶材HiPIMS放電大不相同，設計工藝要知道!
HiPIMS放電，由于工作在放電曲線的特殊區域，其放電特性不僅依賴于使用的氣壓、電壓，更依賴于靶材。更由于HiPIMS工作模式是脈沖工作，其放電特性具有時間特征，而表現出不同的放電特性。這里我們選用常用的幾種靶材（Cu，Cr，Mo，Ti，V和C），給出了他們的放電特性。這種與時間相關的放電特性，對于工藝設計是非常重要的。...
- 2023-05-29 11:49:46 | →
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天津雙脈沖HiPIMS比傳統HiPIMS沉積速率提高近3倍
一種新型的高功率脈沖磁控濺射(HiPIMS)技術，即放電由脈寬短、電壓高的引燃脈沖和脈寬長、電壓低的工作脈沖2部分組成的雙脈沖高功率脈沖磁控濺射技術，目的是解決傳統高功率脈沖磁控濺射沉積速率低的問題。...
- 2023-05-10 10:03:28 | →
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天津HiPIMS中不同脈沖波形制備氧化鈮薄膜
在Nb靶氧反應濺射時，用合適的HiPIMS脈沖波形可以抑制進氣遲滯回線，在沒有氣體控制器下同樣能保證工藝穩定性。...
- 2023-03-27 18:10:36 | →
天津HiPIMS自組織放電高分辨光譜影像學
因磁場約束，以及超高功率放電，高功率脈沖磁控濺射技術（HiPIMS）在放電過程中會存在局部放電增強而導致輝光閃爍的不穩定現象。當不穩定輝光存在時，其放電狀態也有很大差異，輝光會形成不同的放電組織和斑圖形式。伴隨著這些增強型斑圖輝光放電，其內部粒子成分放電狀態如激發與電離存在差異，如何直觀研究這些變化，高分辨光譜影像學是一種有效的手段，可直觀觀察不穩定區域的放電形式與變化。...
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天津高引燃脈沖新HiPIMS模式下薄膜摩擦系數可降低到0.25
多層薄膜能顯著改善復雜環境下部件的性能和壽命，為獲得性能良好的膜層，研發團隊提出了一種高引燃脈沖新HiPIMS放電技術。增加引燃脈沖的個數，強化了膜層的結合力，硬度以及摩擦磨損的性能。...
- 2023-05-23 14:12:41 | →
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天津新HiPIMS放電模式制備薄膜表面粗糙度僅為4.123nm
為獲得HiPIMS的高離化率-高沉積速率技術特征，我們在研究中提出一種新型的HiPIMS放電模式，即電-磁場協同增強HiPIMS技術，該技術以外置電場和磁場雙場協同增強常規HiPIMS放電，增加濺射粒子離化率，改善薄膜的的沉積速率，制備的膜層性能優異。...
- 2023-05-17 10:45:58 | →
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天津 真空鍍膜工藝流程
真空鍍膜是一種常見的表面處理工藝，常用于制造光學鏡片、太陽能電池板、LED等產品。其主要流程包括以下幾個步驟： 1. 基材清洗：將待處理的基材表面進行清洗，以去除表面的油污、灰塵等雜質，確保表面干凈。...
- 2023-04-10 11:18:26 | →
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