HiPIMS設備:高能脈沖弧PVD設備及脈沖復合PVD設備
HiPIMS設備產品介紹:
高功率離子源在高離子電流密度下在更大面積上實現均勻、更大的離子沉積分布。
不同金屬、合金和氧化物的混合濺射,膜層均勻。
全自動控制系統,防腐能力極高