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    HiPIMS設備:高能脈沖弧PVD設備及脈沖復合PVD設備

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    HiPIMS設備產品介紹:

    高功率離子源在高離子電流密度下在更大面積上實現均勻、更大的離子沉積分布。

    不同金屬、合金和氧化物的混合濺射,膜層均勻。

    全自動控制系統,防腐能力極高

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