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公司技術支撐團隊有7篇文章選登《中國表面工程》雜志“高離化磁控技術與應用”???,彰顯新鉑科技在高功率磁控濺射方面有較多的技術積累。
對比陰極弧與HiPIMS對AlTiN沉積膜層的研究
目前制備硬質合金涂層主要可采用PVD方式,而PVD沉積除磁控放電外,還有陰極弧放電進行涂層PVD沉積,相比磁控,陰極弧放電結構簡單,已廣泛應用于各種涂層技術的制備,如裝飾鍍層,其工藝沉積速率快。隨著工藝的要求逐漸提高,硬質合金涂層在硬度等方面提出了更高的要求,