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高引燃脈沖新HiPIMS模式下薄膜摩擦系數可降低到0.25
多層薄膜能顯著改善復雜環境下部件的性能和壽命，為獲得性能良好的膜層，研發團隊提出了一種高引燃脈沖新HiPIMS放電技術。增加引燃脈沖的個數，強化了膜層的結合力，硬度以及摩擦磨損的性能。
新HiPIMS放電模式制備薄膜表面粗糙度僅為4.123nm
為獲得HiPIMS的高離化率-高沉積速率技術特征，我們在研究中提出一種新型的HiPIMS放電模式，即電-磁場協同增強HiPIMS技術，該技術以外置電場和磁場雙場協同增強常規HiPIMS放電，增加濺射粒子離化率，改善薄膜的的沉積速率，制備的膜層性能優異。
脈沖磁控濺射的工作原理和工作方式
脈沖磁控濺射是采用矩形波電壓的脈沖電源代替傳統直流電源進行磁控濺射沉積。脈沖磁控濺射技術可以有效的抑制電弧產生進而消除由此產生的薄膜缺陷，同時可以提高濺射沉積速率，降低沉積溫度等一系列顯著優點。
真空蒸鍍法與濺射鍍膜技術介紹
真空蒸鍍法與濺射鍍膜技術不同區別的介紹
一、真空蒸鍍法
真空蒸鍍是將裝有基片的真空室抽成真空,然后加熱被蒸發的鍍料,使其原子或分子從表面氣化逸出,形成蒸氣流,入射到基片表面,凝結形成固體薄膜的技術.
鍍膜工藝中的鍍膜界表面預處理是為了什么？
我們都知道納米顆粒由于具有大的表面能，擁有自聚集效應。在一個平坦的表面，表面堆積一層納米顆粒，隨著溫度的上升，一般可能會出現納米顆粒之間的聚集和相互作用。而后才與平坦表面發生作用。經典測試表明，金屬之間的互擴散需要達到材料熔點的80%。