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    表面處理技術專家

    全球領先,12m超長管道鍍膜技術

    新鉑科技專注于高功率脈沖等離子體真空鍍膜技術

    • 電源

      HiPIMS電源,P3E電源, 100KHz偏壓電源

    • 設備

      高功率磁控PVD設備
      高能脈沖弧PVD設備、管道PECVD鍍膜設備

    • 工藝

      DLC、CrN、CrTiN、TiSiCN、CrAlSiCN

    產品及解決方案

    應用案例

    about us

    關于新鉑

    公司簡介

    新鉑科技(東莞)有限公司成立于2020 年底,是新鉑科技的主要生產基地,具有4條組裝生產線和5條檢測調試線,廠房面積2000+,現有員工20+。是國內專業從事真空鍍膜系統的研發、制造、銷售為一體的國家級高新技術企業。其研發中心位于東莞市松山湖大學創新城,其研發人員均為碩士以上學歷(其中博士6人),在相關領域發表學術論文300余篇。

    • 60%

      研發人員占比

    • 300+

      發布學術論文

    • 4.5星級

      客戶好評

    • 50+

      課題合作研發

    • 20+

      定制開發項目

    公司簡介

    企業榮譽

    新聞中心


    • 真空電源從“Nokia”到“Iphone”

      江蘇真空電源從“Nokia”到“Iphone”

      ...

      2023-05-03 10:14:27   |   →
    • 對比陰極弧與HiPIMS對AlTiN沉積膜層的研究

      江蘇對比陰極弧與HiPIMS對AlTiN沉積膜層的研究

      目前制備硬質合金涂層主要可采用PVD方式,而PVD沉積除磁控放電外,還有陰極弧放電進行涂層PVD沉積,相比磁控,陰極弧放電結構簡單,已廣泛應用于各種涂層技術的制備,如裝飾鍍層,其工藝沉積速率快。隨著工藝的要求逐漸提高,硬質合金涂層在硬度等方面提出了更高的要求,...

      2022-10-26 00:00:00   |   →
    • 手表裝飾涂層

      江蘇手表裝飾涂層

      視頻帶您了解聚焦高能等離子體表面工程硬件和工藝。...

      2022-07-16 11:12:34   |   →
    • 新鉑科技刀具涂層展示

      江蘇新鉑科技刀具涂層展示

      視頻帶您了解新鉑科技刀具涂層...

      2022-07-16 11:09:57   |   →

    真空磁控濺射涂層技術與真空蒸發涂層技術的區別

    江蘇真空磁控濺射涂層技術與真空蒸發涂層技術的區別

    真空磁控濺射涂層技術不同于真空蒸發涂層技術。濺射是指核能顆粒轟擊固體表面(目標),使固體原子或分子從表面射出的現象。...

    • 6種靶材HiPIMS放電大不相同,設計工藝要知道!

      江蘇6種靶材HiPIMS放電大不相同,設計工藝要知道!

      HiPIMS放電,由于工作在放電曲線的特殊區域,其放電特性不僅依賴于使用的氣壓、電壓,更依賴于靶材。更由于HiPIMS工作模式是脈沖工作,其放電特性具有時間特征,而表現出不同的放電特性。這里我們選用常用的幾種靶材(Cu,Cr,Mo,Ti,V和C),給出了他們的放電特性。這種與時間相關的放電特性,對于工藝設計是非常重要的。...

      2023-05-29 11:49:46   |   →
    • 雙脈沖HiPIMS比傳統HiPIMS沉積速率提高近3倍

      江蘇雙脈沖HiPIMS比傳統HiPIMS沉積速率提高近3倍

      一種新型的高功率脈沖磁控濺射(HiPIMS)技術,即放電由脈寬短、電壓高的引燃脈沖和脈寬長、電壓低的工作脈沖2部分組成的雙脈沖高功率脈沖磁控濺射技術,目的是解決傳統高功率脈沖磁控濺射沉積速率低的問題。...

      2023-05-10 10:03:28   |   →
    • HiPIMS中不同脈沖波形制備氧化鈮薄膜

      江蘇HiPIMS中不同脈沖波形制備氧化鈮薄膜

      在Nb靶氧反應濺射時,用合適的HiPIMS脈沖波形可以抑制進氣遲滯回線,在沒有氣體控制器下同樣能保證工藝穩定性。...

      2023-03-27 18:10:36   |   →

    HiPIMS自組織放電高分辨光譜影像學

    江蘇HiPIMS自組織放電高分辨光譜影像學

    因磁場約束,以及超高功率放電,高功率脈沖磁控濺射技術(HiPIMS)在放電過程中會存在局部放電增強而導致輝光閃爍的不穩定現象。當不穩定輝光存在時,其放電狀態也有很大差異,輝光會形成不同的放電組織和斑圖形式。伴隨著這些增強型斑圖輝光放電,其內部粒子成分放電狀態如激發與電離存在差異,如何直觀研究這些變化,高分辨光譜影像學是一種有效的手段,可直觀觀察不穩定區域的放電形式與變化。...

    • 高引燃脈沖新HiPIMS模式下薄膜摩擦系數可降低到0.25

      江蘇高引燃脈沖新HiPIMS模式下薄膜摩擦系數可降低到0.25

      多層薄膜能顯著改善復雜環境下部件的性能和壽命,為獲得性能良好的膜層,研發團隊提出了一種高引燃脈沖新HiPIMS放電技術。增加引燃脈沖的個數,強化了膜層的結合力,硬度以及摩擦磨損的性能。...

      2023-05-23 14:12:41   |   →
    • 新HiPIMS放電模式制備薄膜表面粗糙度僅為4.123nm

      江蘇新HiPIMS放電模式制備薄膜表面粗糙度僅為4.123nm

      為獲得HiPIMS的高離化率-高沉積速率技術特征,我們在研究中提出一種新型的HiPIMS放電模式,即電-磁場協同增強HiPIMS技術,該技術以外置電場和磁場雙場協同增強常規HiPIMS放電,增加濺射粒子離化率,改善薄膜的的沉積速率,制備的膜層性能優異。...

      2023-05-17 10:45:58   |   →
    •  真空鍍膜工藝流程

      江蘇 真空鍍膜工藝流程

      真空鍍膜是一種常見的表面處理工藝,常用于制造光學鏡片、太陽能電池板、LED等產品。其主要流程包括以下幾個步驟: 1. 基材清洗:將待處理的基材表面進行清洗,以去除表面的油污、灰塵等雜質,確保表面干凈。...

      2023-04-10 11:18:26   |   →
    • 新鉑校園版電源上線

      江蘇新鉑校園版電源上線

      HiPIMS-400是新鉑科技針對高校鍍膜實驗需求設計的一款高功率脈沖磁控濺射電源??梢詫崿F脈沖+直流的組合輸出。...

      2023-03-07 14:02:57   |   →

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