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新鉑科技：什么是輝光?
視頻帶您了解什么是輝光?...
新鉑科技專注于高功率脈沖等離子體真空鍍膜技術
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電源
HiPIMS電源，P3E電源， 100KHz偏壓電源
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設備
高功率磁控PVD設備
高能脈沖弧PVD設備、管道PECVD鍍膜設備 -
工藝
DLC、CrN、CrTiN、TiSiCN、CrAlSiCN
產品及解決方案
應用案例
about us
關于新鉑
新鉑科技（東莞）有限公司成立于2020 年底，是新鉑科技的主要生產基地，具有4條組裝生產線和5條檢測調試線，廠房面積2000+，現有員工20+。是國內專業從事真空鍍膜系統的研發、制造、銷售為一體的國家級高新技術企業。其研發中心位于東莞市松山湖大學創新城，其研發人員均為碩士以上學歷（其中博士6人），在相關領域發表學術論文300余篇。
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60%
研發人員占比
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300+
發布學術論文
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4.5星級
客戶好評
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50+個
課題合作研發
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20+個
定制開發項目
企業榮譽
新聞中心
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對比陰極弧與HiPIMS對AlTiN沉積膜層的研究
目前制備硬質合金涂層主要可采用PVD方式，而PVD沉積除磁控放電外，還有陰極弧放電進行涂層PVD沉積，相比磁控，陰極弧放電結構簡單，已廣泛應用于各種涂層技術的制備，如裝飾鍍層，其工藝沉積速率快。隨著工藝的要求逐漸提高，硬質合金涂層在硬度等方面提出了更高的要求，...
- 2022-10-26 00:00:00 | →
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HiPIMS中不同脈沖波形制備氧化鈮薄膜
在Nb靶氧反應濺射時，用合適的HiPIMS脈沖波形可以抑制進氣遲滯回線，在沒有氣體控制器下同樣能保證工藝穩定性。...
- 2023-03-27 18:10:36 | →
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真空弧放電下不同尋常的陰極腐蝕圖案
對于真空弧放電下的弧斑導致的陰極材料的腐蝕研究其實由來已久。對于真空弧放電下的弧斑主要有兩種，一種是移動較快、較小、較暗的弧斑，主要發生在較臟的靶面和氧化的靶面；另一種是移動較慢、較大較亮的弧斑，其主要發生在干凈和惰性氣體放電時的靶面。...
- 2023-02-13 16:43:17 | →
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DLC涂層 - 汽車雨刮器的“便衣”
雨刮器是汽車的重要裝置，對于安全行車具有至關重要的作用。 好的雨刮器必須具備耐熱、耐寒、耐酸堿、抗腐蝕、能貼合擋風玻璃、減輕馬達負擔、低噪音、撥水性強、質軟不刮傷擋風玻璃等特點，能使你視野清晰。...
- 2023-02-01 11:18:54 | →
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多孔陶瓷材料的等離子體滲透性研究
氧化鋅（ZnO）作為一種高帶隙半導體，以其出色的化學穩定性和生物相容性廣泛應用于氣體傳感和催化等領域，尤其是具有三維多孔骨架結構的t-ZnO。通過控制t‐ZnO的晶體形態和缺陷結構，可以適應不同的應用，其中就包括對氧化鋅進行等離子體表面改性處理來改善其電導率等性能。為了將三維多孔t‐ZnO的優點與等離子體表面改性相結合，必須讓等離子體穿透到多孔骨架結構中。由于高能等離子體會導致聚合物表面C-C和C-H鍵的解離并使C自由基位點上附著新的原子或基團，...
- 2022-12-09 11:49:18 | →
HiPIMS自組織放電高分辨光譜影像學
因磁場約束，以及超高功率放電，高功率脈沖磁控濺射技術（HiPIMS）在放電過程中會存在局部放電增強而導致輝光閃爍的不穩定現象。當不穩定輝光存在時，其放電狀態也有很大差異，輝光會形成不同的放電組織和斑圖形式。伴隨著這些增強型斑圖輝光放電，其內部粒子成分放電狀態如激發與電離存在差異，如何直觀研究這些變化，高分辨光譜影像學是一種有效的手段，可直觀觀察不穩定區域的放電形式與變化。...
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真空鍍膜工藝流程
真空鍍膜是一種常見的表面處理工藝，常用于制造光學鏡片、太陽能電池板、LED等產品。其主要流程包括以下幾個步驟： 1. 基材清洗：將待處理的基材表面進行清洗，以去除表面的油污、灰塵等雜質，確保表面干凈。...
- 2023-04-10 11:18:26 | →
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鍍膜工藝中的鍍膜界表面預處理是為了什么？
我們都知道納米顆粒由于具有大的表面能，擁有自聚集效應。在一個平坦的表面，表面堆積一層納米顆粒，隨著溫度的上升，一般可能會出現納米顆粒之間的聚集和相互作用。而后才與平坦表面發生作用。經典測試表明，金屬之間的互擴散需要達到材料熔點的80%。 ...
- 2022-11-23 10:53:31 | →
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利用陽極層離子源在管道內壁制備類金剛石涂層
陽極層離子源由于其簡單性和將氣體轉變為離子束的能力而被廣泛研究，其主要功能是在使用期間360°范圍內連續產生離子束。通過簡單地沿著直管或彎管牽引離子源就可以實現管道內壁涂層的制備。利用傳統的物理氣相沉積如直流/射頻磁控濺射和PLD方法制備的類金剛石（DLC）涂層通常包含結構缺陷，如針孔、孔洞和裂紋。...
- 2022-10-26 10:13:03 | →