增強了電子發射,進而獲得高的等離子體密度,離化率高、沉積速率高,這將有助于增加膜層致密性、降低膜層應力;可低溫沉積,降低工件的熱應力,提高工件的壽命;
可抑制陰極弧靶中毒、改善膜層結構、控制膜層顆粒污染;增加電弧穩定性和提高靶材利用率;
新鉑新型脈沖陰極弧電源,實現了脈沖增強電子發射以提高真空室內等離子體密度。該電源核心由脈沖發射和維持電流系統構成,由單片機和觸摸屏系統協同控制和管理,具有滅弧檢測、自動重啟,過流保護、過熱控制和故障檢測功能
增強了電子發射,進而獲得高的等離子體密度,離化率高、沉積速率高,這將有助于增加膜層致密性、降低膜層應力;可低溫沉積,降低工件的熱應力,提高工件的壽命;
可抑制陰極弧靶中毒、改善膜層結構、控制膜層顆粒污染;增加電弧穩定性和提高靶材利用率;
新鉑新型脈沖陰極弧電源,實現了脈沖增強電子發射以提高真空室內等離子體密度。該電源核心由脈沖發射和維持電流系統構成,由單片機和觸摸屏系統協同控制和管理,具有滅弧檢測、自動重啟,過流保護、過熱控制和故障檢測功能